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ZHENGZHOU HENGTONG FURNACE CO LTD
產品屬性

等離子體增強滑動式PECVD管式爐

等(deng)離子體增(zeng)強(qiang)滑(hua)動(dong)式(shi)PECVD管(guan)式爐

鄭州香蕉视频app苹果下载爐業有限公司
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產品介紹

等離(li)子(zi)體增強滑動式管式爐(lu)


產品介紹:

化學氣相沉(chen)積(ji)係統為(wei)了使(shi)化學反(fan)應能(neng)在較(jiao)低的(de)溫(wen)度(du)下進(jin)行(xing),利用了(le)等離子體(ti)的活(huo)性來促(cu)進反應,因而這(zhe)種稱為等離子體增強化學氣相(xiang)沉積法(),內爐膛表麵塗有美國(guo)進口(kou)的高溫氧化(hua)鋁塗層(ceng)可以提高設(she)備的加熱效(xiao)率,同時(shi)也(ye)可以(yi)延長儀(yi)器(qi)的使用(yong)壽(shou)命。等離子體增強滑動式真空(kong)管式爐係(xi)統(tong)廣泛應用於(yu)沉積高質量薄膜(mo)、薄(bao)膜、金剛石薄(bao)膜、硬質薄(bao)膜、光學薄(bao)膜和炭納米管()等

 

等離子體增強滑動式混(hun)氣(qi)真(zhen)空管式爐係統是(shi)為了使化學反應(ying)能在較低(di)的溫度下進行,利(li)用了等離子體的活性來(lai)促進反應,環(huan)境溫度在℃,但反應氣體在(zai)輝(hui)光放(fang)電(dian)等離子體中能受(shou)激分(fen)解、離解(jie)和離化,從(cong)而大(da)大提(ti)高(gao)了反應物的活性(xing),這些(xie)具有(you)反應活性的中性物(wu)質很(hen)容易被(bei)吸(xi)附到(dao)較次(ci)溫度的基(ji)本(ben)表麵上,發(fa)生(sheng)非平衡的化學反應沉積生成(cheng)薄膜,因(yin)此這種稱(cheng)為等離子體增強化學氣相沉積法(fa)()。

 

等離子體增強滑動式多(duo)路(lu)混氣真空管式爐係統,由單(dan)溫區(qu)管式爐、真空係統、質子流量計(ji)、射頻電源(yuan)係統係統組成。

 

真空管式爐係統可在片(pian)狀(zhuang)或(huo)類似(shi)形(xing)狀樣(yang)品表麵(mian)沉積、非晶(jing)矽、微晶矽、納(na)米矽、、類金剛(gang)石等多種(zhong)薄膜,並(bing)可(ke)沉積型、型(xing)摻(can)雜(za)薄膜。沉積的薄膜具(ju)有良好(hao)的均勻(yun)性、致(zhi)密(mi)性、粘(zhan)附(fu)性、絕(jue)緣性。化學氣相沉積係統廣(guang)泛(fan)應用於刀(dao)具、高精(jing)模(mo)具、硬(ying)質塗層、高端(duan)裝(zhuang)飾等領域(yu)。


化學氣象沉著(zhu)設備PEVCD產(chan)品套(tao)件(jian)包含

•1200度開啟(qi)式真空管式爐(可選配多溫區)

 

•滑動係統分為手(shou)動、電動滑動,並配有風冷(leng)係統

 

•多路質量流量控(kong)製(zhi)係統

 

•真空係統(可選配(pei)中真空或高真空)


 技術參(can)數(shu):

路質子混氣管式爐係統

爐管尺(chi)寸

直(zhi)徑(jing)

加熱(re)區長度

更(geng)多規格可按(an)照客(ke)戶要(yao)求定(ding)製

正(zheng)常工(gong)作(zuo)溫度

最高工作溫度

加(jia)熱元件

摻鉬合金加熱絲(si)

爐膛材(cai)質

采用日(ri)本進口爐膛材料,不掉粉(fen)、材料(liao)保溫性能好、反射率(lv)高、溫場均(jun)衡(heng),抗熱漲冷縮(suo)能力(li)強

控溫方式

智(zhi)能化段可編(bian)程控製(用戶可選配液(ye)晶觸(chu)摸(mo)屏(ping)顯(xian)示(shi))

真空係統

高真空分子泵(beng)組(zu),高真空複(fu)合真空計

前級泵升每秒(miao),分子泵升(sheng)每秒

采(cai)用係列(lie)波(bo)紋管和真空擋(dang)板(ban)閥(fa)連接(jie)

質子流量計

高精度質量流量計可準(zhun)確(que)的控製氣體流(liu)量

氣體流量範(fan)圍為SCCm誤(wu)差(cha)為

出氣真空壓(ya)力表(biao),內(nei)置氣體混氣係統,

不鏽鋼(gang)針閥計管道,標準雙卡(ka)套接頭(tou)

射頻(pin)電源係統

輸出(chu)功率

最大可調(diao)±

頻率

,穩定性±

噪(zao)聲(sheng)

冷卻(que)

風冷

輸(shu)入功(gong)率

1KW  AC 220V

提供(gong)相關(guan)配件

氣煉石英(ying)爐管、真空法蘭(lan)、高溫手套、坩堝(guo)鉤(gou)、熱電偶(ou)、防燙罩、剛玉(yu)坩堝、爐塞(sai)

電氣認(ren)證

認證(zheng)

售(shou)後(hou)服(fu)務(wu)

個(ge)月(yue)質保(bao)、終(zhong)身保修

 


等離子體增強滑動式管式爐


產品介紹:

化學氣相沉積係統為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,因而(er)這種稱為等離子體增強化學氣相沉積法(),內爐膛(tang)表麵塗(tu)有美(mei)國進口的高溫氧化鋁(lv)塗層可以提高設備(bei)的加熱效率,同(tong)時也可以延(yan)長(zhang)儀器的使用壽命。等離子體增強滑動式真空管式爐係統廣泛應用於沉積高質量薄膜、薄膜、金剛石薄膜、硬質薄膜、光(guang)學薄膜和炭(tan)納米(mi)管()等

 

等離子體增強滑動式混氣真空管式爐係統是為了使化學反應能在較低的溫度下進行,利用了等離子體的活性來促進反應,環境(jing)溫度在℃,但(dan)反應氣體在輝光放電等離子體中能受激(ji)分解、離解和離化,從而大大提高了反應物的活性,這些具有反應活性的中(zhong)性物質很容(rong)易(yi)被吸附到較次溫度的基本表麵上(shang),發生非平(ping)衡的化學反應沉積生成薄膜,因此(ci)這種稱為等離子體增強化學氣相沉積法()。

 

等離子體增強滑動式多路混氣真空管式爐係統,由(you)單溫區管式爐、真空係統、質子流量(liang)計、射頻電源係統係統組成。

 

真空管式爐係統可在片狀或類(lei)似形狀樣品表麵沉積、非(fei)晶矽(xi)、微(wei)晶矽、納米矽、、類金剛石等多種薄膜,並可沉積型、型摻雜薄膜。沉積的薄膜具有良(liang)好的均勻性、致密性、粘附性、絕緣(yuan)性。化學氣相沉積係統廣泛應用於刀具、高精模具、硬質塗層、高端裝飾等領(ling)域。


化學氣象沉著設備PEVCD產品套件包含(han)

•1200度開(kai)啟式真空管式爐(可選(xuan)配多溫區)

 

•滑動係統分為手動、電動滑動,並配有風(feng)冷係統

 

•多路質量流量控製係統

 

•真空係統(可選配中真空或高真空)


 技(ji)術參數:

路質子混氣管式爐係統

爐管尺寸(cun)

直徑

加熱區長度

更多規(gui)格(ge)可按照(zhao)客戶要求(qiu)定製

正常(chang)工作溫度

最(zui)高工作溫度

加熱元(yuan)件

摻鉬(mu)合金加熱絲

爐膛材質

采用日本進口爐膛材料,不掉粉、材料保溫性能好、反射(she)率高、溫場(chang)均衡,抗(kang)熱漲(zhang)冷縮能力強

控溫方式

智能化段可編程控製(用戶(hu)可選配液晶觸摸屏顯示)

真空係統

高真空分子泵組,高真空複合(he)真空計

前(qian)級泵升每(mei)秒,分子泵升每秒

采用係列波紋(wen)管和真空擋板閥連(lian)接

質子流量計

高精度質量流量計可準確的控製氣體流量

氣體流量範圍(wei)為SCCm誤差為

出氣真空壓力表,內置(zhi)氣體混氣係統,

不(bu)鏽(xiu)鋼針(zhen)閥計管道(dao),標準雙(shuang)卡套接頭

射頻電源係統

輸出功率

最大可調±

頻率

,穩(wen)定性±

噪聲

冷卻

風冷

輸入(ru)功率

1KW  AC 220V

提供相關配件

氣煉(lian)石英爐管、真空法蘭、高溫手套、坩(gan)堝鉤、熱電偶、防(fang)燙(tang)罩(zhao)、剛玉坩堝、爐塞

電氣認證

認證

售後服務

個月質保、終身(shen)保修

 


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